展开

新闻中心

产品展示

PRODUCT

联系我们 / Contact us
主页 > 新闻中心 > 行业新闻 >

中国半导体传出喜讯,中国科学院宣布,5nm芯片

作者:admin 发布时间:2020-08-04

提到光刻机,相信很多小伙伴都不陌生,作为半导体集成电路重要的加工设备。光刻机从设计到生产中所采用的技术,涵盖了近乎全球的高尖端科技产品。从德国卡尔蔡司的镜头,再到光刻机所使用的极紫外光线设备。这些高尖端的科技技术,往往被西方国家所掌控,中国想要获得高精度的光刻机设备也是困难重重。

由于美国阻止了全球最大的光刻机供应商ASML,向国内交付最新生产的光刻机设备。极大程度地延缓了国内半导体行业的发展速度,而在近日,中国半导体终于传出喜讯,中国科学院宣布,5nm制程的芯片光刻设备或许离中国不再遥远。

根据《环球时报》早期发布的报道,国内一家研究公司已经开发了一款5纳米级别的激光光刻机,国人希望这一技术给芯片行业带来助力。但目前设备制造仍有一些技术性难题需要克服,设备的正式发布还需要一段时间。

但中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所和国家纳米科学技术中心,却传出了新的好消息。根据相关媒体报道,7月10日,该部门已经在超高精度的激光光刻上取得了重要发现,但目前该发现只适用于理论,仍需要大量的资金进行实践测试。

目前,该研究论文已经在美国相关的出版社进行发布,并且刊登在了美国某档科学期刊之上。激光光刻机可以通过特殊的光线完成精确的图案设计,可以帮助微电子产业、半导体芯片系统完善。

近些年来,中国半导体行业的发展十分的迅速,但对比老牌的欧美半导体企业。国内半导体行业由于起步较晚的原因,在半导体芯片的设计领域有着不小的差距。这也是为什么最近美国改变了出口规定之后,对华为的半导体产业带来巨大影响的原因之一。台积电被禁止为华为提供代工服务,中国大陆现如今所有的芯片代工企业中。

最高的代工精度为14纳米级的芯片代工服务,且在代工产品的产能也不能够满足国内半导体芯片厂商的需求。虽然,华为在9月中旬之前依旧可以继续从台积电接收芯片,但未来的发展势必需要依靠中国大陆发展自己的高端芯片代工产线。如今国内激光光刻机技术的突破,无疑是一次具有跨时代意义的事件。虽然只是理论上可行的方法,但已经给予了国内代工5纳米技术的雏形。

总结:目前来看,中国半导体行业与西方先进供应商的差距还是十分大的,比如荷兰ASML公司手中占据了大量的关键技术。如何突破这些技术的封锁,量产属于自己的光刻机设备,才能够完全摆脱光刻机带来的其他影响。但目前来看,中国芯片代工行业的投资回报率和年限问题,是阻碍其发展的重要因素。对此,你是怎么看的呢?欢迎大家留言讨论!