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国产半导体设备,进口替代突破口(国产湿法清

作者:admin 发布时间:2020-06-24

清洗贯穿全流程,随着制程难度增加、清洗步骤随之大增,对清洗设备需求也将提升。1)硅片的加工过 程对洁净度要求非常高,几乎每一步加工都需要清除沾污,而且随着未来制程不断先进、所需清洗步骤不断增多,清洗设备需求量将成倍增长。2)目前晶圆清洗设备在晶圆制造设备中的采购费用占比约为 6%,清洗方式有湿法和干法两种,目前生产工艺中以湿法清洗为主、结合部分干法工艺,其中湿法设备主要有单片晶圆清洗设备、槽式晶圆清洗设备、洗刷机等。

1)假设清洗设备晶占晶圆制造设备的比重稳定,粗略计算出全球半导体清洗设备 2019-2021 年的市场规模分别约为 28.68、29.18、32.06 亿美元。

2)未来半导体清洗设备行业增长的驱动力包括三部分:一方面是随着工艺的不断升级、制造流程增多,清洗频率也将有所增加,清洗设备的需求量将不断提升; 二是集成电路制造工艺升级,芯片结构越发复杂、清洗难度升级,如 3D 结构等需要在对芯片无伤情况下对内部结构进行清 洗;三是集成电路新型材料的出现,也对清洗工艺提出了新的需求。

3)从清洗设备的配备数量来看,通常 4 万片产能的产线 上,8 英寸线需要配备 50 台左右、12 英寸线需要 70 台左右,国 外部分厂商可以达到 120 台的配备,包括槽式晶圆清洗设备和单片晶圆清洗设备。

4)全球清洗设备市场中,日系企业占据绝对的主导地位,迪恩士(DNS)市场份额大约为 60%、东京电子(Tokyo Electron大约为30%,其他企业还有美国 Lam Research、韩国 SEMES 和 KCTECH 等,后二者主要供给韩国市场。

投资建议:国产企业奋起直追,龙头盛美回归在即。目前中国市场和国际市场范围内,主要的湿法设备厂商仍 以日本和欧美为主,国内企业正奋起直追但占比仍较低,国内市场中预计合计占比不超过10%,未来湿法工艺设备的挑战和机会都很大,目前国内湿法清洗设备供应商包括盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等,均将有所受益,尤其是龙头盛美兆声波单片清洗设备获得全球众多客户认可,子公司科创板 IPO 申请已正式获上交所受理。

北方华创——综合实力强劲的半导体设备供应商北方华创主营半导体装备、真空装备、新能源锂电装备及精密元器件业务,为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案,以生产销售高端集成电路装备为主,重点发展刻蚀设备(Etch)、物理气相沉积设备(PVD)和化学气相沉积设备(CVD)三大类设备,广泛应用于集成电路制造、先进封装、半导体照明(LED)、微机电系统 (MEMS)等领域。 半导体清洗设备方面,北方华创可提供多种类型的单片清洗设备和槽式清洗设备, 已广泛应用于集成电路

至纯科技成立于 2000 年,一直致力于为高端先进制造业企业提供高纯工艺系统 的解决方案,涵盖了提供整个系统的设计、选型、制造、安装、测试、调试和系统托 管服务,广泛应用于半导体、微电子、生物医药、光伏、光纤、TFT-LCD、LED 等领 域,包括华力、华润上华、士兰微、台积电、力晶等半导体知名用户;京东方、和辉等等显示屏领导者;中天、富通、通鼎、亨通等光纤用户;华灿、聚灿、圆融、国星 光电等 LED 用户;英利、晶澳等光伏用户;以及中信国健、扬子江药业、武汉生物所、华瑞等生物制药企业。根据公司公告,目前公司已经获得了中芯、 万国、TI、燕东、华润等客户的正式订单,并与长江存储、合肥长鑫等国内最主流存 储器厂商建立了密切合作关系。

沈阳芯源微——涂胶显影领先企业向清洗设备进军 沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于 2002 年,是由中科院沈阳自动化研究 所发起创建的国家高新技术企业,专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服 务,致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案,已申请 300 余项专利,其中发明专利 272 项;已拥有授权专利 159 项,其中发明专利 134 项。 沈阳芯源所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机 等产品,已形成完整的技术体系和丰富的产品系列,可根据用户的工艺要求量身定制。